[路演]上海新阳:光刻胶研发成功将提升公司整体技术水品

  全景网4月29日讯 上海新阳(300236)2020年度业绩网上说明会周四在全景·路演天下举行。董事长王福祥表示,公司购置了满足I线365nm光刻胶到ArF 193nm浸没式光刻胶的4台光刻机,是研发各类半导体光刻胶必备的研发测试和生产质控的关键设备,没有光刻机就没法实现研发光刻胶的产业化,光刻胶的研发成功会给公司整体的技术水品带来质的提升和销售收入的显著增长。(全景网)

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