国创高新于2012年12月13日召开第四届董事会第六次会议审议通过了《湖北国创高新材料股份有限公司关于竞买土地使用权的议案》。随着公司业务规模的不断扩大，公司的管理团队和员工人数也逐渐增多，原有的办公用房和工程技术研究中心用房十分紧张，为解决办公环境拥挤和工程技术研发中心用房紧张等问题，公司拟参与竞买武汉市国土资源和规划局东湖新技术开发区分局编号为P（2012）255号地块的土地使用权。公司全体董事一致表决同意公司参与竞买武汉市国土资源和规划局东湖新技术开发区分局编号为P（2012）255号地块的土地使用权，所需资金由公司自有资金解决。
    土地所在位置：武汉市东湖新技术开发区高新大道以南，三环线以西；
    土地面积：159964.52平方米；
    出让年限：商服40年、住宅70年；
    土地用途：商务用地、居住用地；
    挂牌价格及资金来源：预计该土地使用权出让总价款不超过人民币50,000万元，公司拟投资不超过人民币20,000万元作为前期该地块的竞买保证金，全部为自有资金。
    待该地块竞拍成功后，公司将组建项目公司。公司对该项目的最终投资不超过人民币20,000万元，不再追加其他任何投资，剩余部分由新组建项目公司其他股东自筹。